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| 序号 | 等级 | 检索式 | 名称 | 专利库 | 检索示例 | 说明 | 温馨提示 |
| 1 | 1 | RCC/ | 被引国家数 | 需选库 | RCC/8 | 表示被8个国家引用的专利 | 被引国家数：被多少国家引用的专利，同一个国家有多篇专利，不重复计算国家数。 |
| 2 | 1 | REFC/ | 被引用专利数 | 需选库 | REFC/8 | 表示被8篇专利引用 | 被引用专利数：被多少篇专利引用 |
| 3 | 1 | RNC/ | 被N个公司专利引用 | 需选库 | RNC/n | 被引公司数检索:专利有n个公司引用 | |
| RNC/2-10 | 被引公司数检索：数值范围的公司引用 | ||||||
| 4 | 1 | CNC/ | 引用N个公司 | 需选库 | CNC/n | 表示引用N个公司的专利 | |
| CNC/2-4 | 表示引用数值范围的公司专利 | ||||||
| 5 | 1 | REFS/ | 关联分析检索 | 需选库 | refs/(cn and us) | 同时被中国、美国专利引用 | 被多个元素引用如：国家、公司、分类等，各个元素之间可以逻辑组合 |
| refs/(华为 and 高通 andnot 爱立信) | 同时被华为、高通引用，但没有被爱立信引用 | ||||||
| refs/(h04n and 海尔) | 同时被h04n、海尔引用 | ||||||
| 6 | 1 | REFSB/ | 关联技术检索(关键词) | 需选库 | a/cdma and refsb/wcdma | S1是专利集合,引用S1的专利必须含有输入的关键词 | s1代表检索式 |
| 7 | 1 | REFSN/ | 关联技术检索(分词) | 需选库 | a/cdma and refsn/wcdma | S1是专利集合,引用S1的专利必须含有输入的词,该词为Patentics语义分词 | s1代表检索式 |
| 8 | 1 | REFSNS/ | 关联地域检索 | 中国cn库 | a/cdma and refsns/广东 | S1是专利集合,引用S1的专利地域必须输入的地域 | s1代表检索式 |
| 9 | 1 | REFSAPD/ | 关联申请日检索 | 需选库 | a/cdma and refsapd/2010 | S1是专利集合,引用S1的专利的申请日必须输入的日期 | s1代表检索式 |
| 10 | 1 | G/CITE-S | 专利引用分析检索 | 需选库 | S1 AND G/CITE-S （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：S1源专利按照引用篇数由多至少排序输出，没有引用不输出 | |
| 11 | 1 | G/CITE-D | 专利引用分析检索 | 需选库 | S1 AND G/CITE-D （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：S1源专利集合引用目标专利集合，并按被引用数量由多到少排序 | |
| 12 | 1 | CITEREL/ | 引用相关性分析检索 | 需选库 | S1 and CITEREL/X 找出S1专利集合引用的X类对比文献 | 找出不同相关性类型的引用文献，支持以下四种类型：X: 单篇影响专利新颖性或创造性的文件，Y: 与另外的Y类文件结合而影响专利创造性的文件，R: 任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件，E: 申请日在先，公开日在后，影响专利新颖性的抵触申请 | 需搭配语义检索 |
| 13 | 1 | CITEBY/ | 需选库 | S1 and CITEBY/applicant 找出申请人给出的S1专利集合的引用文献 | 找出不同来源的引用文献 ，支持以下三种类型：applicant（申请人）examiner（审查员）thirdparty（第三方） | ||
| 引用来源分析检索 | S1 and CITEBY/examiner 找出审查员给出的S1专利集合的引用文献 | ||||||
| S1 and CITEBY/thirdparty 找出第三方给出的S1专利集合的引用文献 | |||||||
| 14 | 1 | G/REF-S | 专利被引用分析检索 | 需选库 | S1 AND G/REF-S （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：引用S1源专利的专利集合，并按引用数量由多到少排序 | |
| 15 | 1 | RTYPE/ | 被引用类型检索 | 需选库 | S1 and RTYPE/X | 找出S1专利集合中作为X类型被引证的专利文献 | |
| 16 | 1 | REFREL/ | 被引用相关性分析检索 | 需选库 | S1 and REFREL/X | S 找出以S1中专利作为X类型对比文件的专利文献，支持以下四种类型：X: 单篇影响专利新颖性或创造性的文件Y: 与另外的Y类文件结合而影响专利创造性的文件R: 任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件E: 申请日在先，公开日在后，影响专利新颖性的抵触申请 | 需搭配语义检索 |
| 17 | 1 | REFBY/ | 被引用来源分析检索 | 需选库 | S1 and REFBY/applicant 找出申请人检索报告中引用了S1中专利的专利文献 | 找出不同来源的被引用文献，支持以下三种类型：applicant （申请人）examiner （审查员）thirdparty（第三方） | |
| S1 and REFBY/examiner 找出审查员检索报告中引用了S1中专利的专 利文献 | |||||||
| S1 and REFBY/thirdparty 找出第三方检索报告中引用了S1中专利的专利文献 | |||||||
| 18 | 1 | G/REF-D | 专利被引用分析检索 | 需选库 | S1 AND G/REF-D （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：S1源专利集合按照被引用次数由多至少排序输出，没有被引用的不输出 | |
| 19 | 1 | G/REF-F | 专利族被引用分析检索 | 需选库 | S1 AND G/REF-F （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：S1源专利集合按照族被引用次数由多至少排序输出，没有被引用的不输出 | |
| 20 | 1 | G/REF-I | 专利被引用影响因子分析检索 | 需选库 | S1 AND G/REF-I （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：S1源专利集合按照被引用影响因子由多至少排序输出，没有被引用的不输出 | |
| 21 | 1 | G/REF-E | 专利被自引用分析检索 | 需选库 | S1 AND G/REF-E （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：S1源专利集合按照被自引用由多至少排序输出，没有被引用的不输出 | |
| 22 | 1 | G/REF-L | 去除被自引用后被引用次数 | 需选库 | S1 AND G/REF-L （S1是检索式） | 上述检索式结果含义：S1源专利集合按照去除被自引用后被引用次数由多至少排序输出，没有被引用的不输出 |
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